Los compuestos son útiles para el tratamiento y/o prevención de enfermedades que están asociadas con la modulación de los receptores CB1. Reivindicación 1: Compuestos de fórmula (1), en donde: X es C ó N; R2 es alquilo inferior o -(CH2)n-R2a; R2aes cicloalquilo, opcionalmente mono-, di-, tri- o tetra-sustituido, independientemente, por hidroxilo, alquilo inferior, alcoxilo inferior, alquilo inferior fluorado o alcoxilo inferior fluorado; un anillo heterocíclico saturado monovalente de 5 ó 6miembros que contiene de uno a tres heteroátomos independientemente seleccionado de nitrógeno, oxígeno y azufre, estando dicho anillo heterocíclico opcionalmente mono-, di- o tri-sustituido, independientemente, por hidroxilo, alquilo inferior,alcoxilo inferior, amino, alquilamino inferior, cicloalquilo, oxo, alquilo inferior fluorado o alcoxilo inferior fluorado; un anillo heteroaromático de 5 ó 6 miembros monovalente que contiene de una a cuatro heteroátomos independientementeseleccionados de nitrógeno, oxígeno y azufre, estando dicho anillo heteroaromático opcionalmente mono-, di- o tri-sustituido, independientemente, por hidroxilo, alquilo inferior, alcoxilo inferior, halógeno, amino, alquilamino inferior ocicloalquilo; o fenilo, que puede estar opcionalmente mono-, di- o tri-sustituido, independientemente, por hidroxilo, alquilo inferior, alcoxilo inferior, halógeno, alquilamino inferior, alquilo inferior halogenado, alcoxilo inferior halogenado onitro; R3 es cicloalquilo, opcionalmente mono-, di- o tri o tetra-sustituido, alcoxilo inferior, alquilo inferior fluorado o alcoxilo inferior fluorado; o fenilo, que puede estar opcionalmente mono-, di- o tri-sustituido, independientemente, porhidroxilo, alquilo inferior, alcoxilo inferior, halógeno, alquilamino inferior, alquilo inferior halogenado, alcoxilo inferior halogenado o nitro; R4 es un anillo heteroaromático monovalente de 5 ó 6 miembros que contiene de uno a tres heteroátomosindependientemente seleccionados de nitrógeno, oxígeno y azufre, estando dicho anillo heteroaromático opcionalmente mono-, di- o tri-sustituido, independientemente, por hidroxilo, alquilo inferior, alcoxilo inferior, halógeno, amino, alquilaminoinferior; naftilo, que puede opcionalmente estar mono-, di- o tri-sustituido, independientemente, por hidroxilo, alquilo inferior, alcoxilo inferior, halógeno, alquilamino inferior, alquilo inferior halogenado, alcoxilo inferior halogenado o nitro;o fenilo que puede opcionalmente estar mono-, di- o tri-sustituido, independientemente, por hidroxilo, alquilo inferior, alcoxilo inferior, halógeno, nitro, alquilo inferior halogenado, alcoxilo inferior halogenado, ciano, alquilsulfonilo inferior o-NR7R8; o dos sustituyentes adyacentes de dicho residuo fenilo juntos son -O-(CH2)p-O- o -(CH2)2-C(O)NH-; R5 y R6 son cada uno independientemente hidrógeno, alquilo inferior, halógeno o metilo fluorado; R7 y R8 son cada uno independientementehidrógeno o alquilo inferior; o R7 y R8 junto con el átomo de nitrógeno al que están unidos forman un anillo heterocíclico aromático o saturado de 5 ó 6 miembros que opcionalmente contiene otro o otros dos heteroátomos independientementeseleccionados de nitrógeno, oxígeno y azufre, estando dicho anillo heterocíclico aromático o saturado opcionalmente sustituido por hidroxilo, alquilo inferior, alcoxilo inferior, halógeno, amino o alquilamino inferior; m es 0, 1 ó 2; n es 0 ó 1; pes 1, 2 ó 3; y sales farmacéuticamente aceptables de los mismos.
Palabras clave: alquilamino inferior ocicloalquilo alquilo inferior fluorado alquilsulfonilo inferior inferior m inferior geno
Titular Vigente:
F. Hoffmann-la Roche Ag 100 %
Tipo de Solicitud: Patente
| Boletin: | Fecha: | Publicacion: |
|---|---|---|
| 285 | 29/06/2005 | AR042691A1 |
| Deposito en: | ![]() |
|---|---|
| Resolucion: | 31/01/2007 |
| Presentacion: | 30/12/2003 |
| Notificacion: | 06/02/2007 |
| Agente: | 0 - |
| Tipo: | Desistida Forzosa |
| Solicitud: | PD042691 |
| Caracter: | Independiente |
Titular Vigente: | ||
![]() |
F. Hoffmann-la Roche Ag 100 % | |
Prioridad: | ||
| Pais | Numero | Fecha |
|---|---|---|
| EP | 03000003.8 | 02/01/2003 |