Un procedimiento de fase líquida, anhidro, para preparar polímeros que contienen hidroxilo de pureza incrementada que comprende las etapas de polimerización, purificación, transesterificación, purificación, remoción del catalizador e intercambio delsolvente. El polímero en solución resultante puede usarse directamente, sin etapas de procedimiento adicionales, para preparar una composición de fotorresistencia. Reivindicación 1: Un procedimiento de fase líquida para preparar un polímero ensolución que contiene hidroxilo puro y anhidro y que comprende las etapas de: (A) polimerizar un monómero o monómeros seleccionados del grupo que consiste en acrilatos de alquilo de estireno sustituido, un monómero o monómeros co-polimerizablesetilénicamente insaturados y mezclas de los mismos en un primer solvente el presencia de un iniciador por un período de tiempo suficiente y a una temperatura y presión suficientes para formar un polímero y una primera mezcla solvente; (B) purificarel polímero y la primera mezcla de solvente por fraccionamiento donde se agrega un primer solvente adicional a dicha mezcla, se calienta dicha mezcla y/o se agita, se deja depositar la mezcla, se decanta el primer solvente, y se agrega un primersolvente adicional, y se repite una vez más este fraccionamiento; (C) transesterificar dicha mezcla purificada de la etapa (B) donde dicha mezcla se refluja hasta el punto de ebullición de dicho primer solvente en presencia de un catalizador por unperíodo de tiempo suficiente y a una temperatura de presión suficiente para formar una mezcla de reacción que contiene un polímero que contiene hidroxilo y un primer solvente; (D) purificar dicha mezcla de reacción de la etapa (C) donde se mezcla unsegundo solvente con dicha mezcla de reacción, donde dicho segundo solvente es inmiscible, se dejan separar las capas y se remueve dicho segundo solvente y cualquier sub-producto disuelto y polímeros de un peso molecular promedio bajo disueltos enel mismo; (E) pasar dicha mezcla de reacción purificada de la etapa (D) a través de un material de intercambio iónico para remover cualquier catalizador del mismo y proveer por lo tanto una solución polimérica que contiene hidroxilo sustancialmentelibre de catalizador; (F) agregar un tercer solvente, que es compatible con fotorresistencia a dicha solución polimérica que contiene hidroxilo de la etapa (E) y luego separar por destilación el primer solvente a una temperatura de por lo menos elpunto de ebullición de dicho primer solvente por un período de tiempo suficiente para remover sustancialmente todo dicho primer solvente a fin de obtener un polímero que contiene hidroxilo sustancialmente puro en solución en dicho tercer solvente.
Palabras clave: solvente con dicha transesterificar dicha mezcla intercambio delsolvente mezcla solvente solvente mezcla
Titular Vigente:
Chemfirst Electronic Materials Lp (Cfem) 100 %
Tecnico Titular:
POCH GRACIELA
Tipo de Solicitud: Patente
| Boletin: | Fecha: | Publicacion: |
|---|---|---|
| 249 | 16/02/2005 | AR039433A1 |
| Deposito en: | ![]() |
|---|---|
| Resolucion: | 21/02/2005 |
| Presentacion: | 16/04/2003 |
| Notificacion: | 21/02/2005 |
| Agente: | 195 - |
| Tipo: | Abandonada |
| Solicitud: | PA039433 |
| Caracter: | Independiente |
Titular Vigente: | ||
![]() |
Chemfirst Electronic Materials Lp (Cfem) 100 % | |
Prioridad: | ||
| Pais | Numero | Fecha |
|---|---|---|
| US | 10/126563 | 19/04/2002 |