Substrato de morfologia superficial mejorado por rociadura de plasma

La presente invención se refiere a una celda para la electrólisis de especies disueltas contenidas en un baño de la celda y que tiene un ánodo sumergido en el baño, dicha celda tiene un ánodo que tiene como su superficie operativa un revestimiento de superficie electroquímicamente activo sobre un metal de substrato que tiene una superficie rugosa de metal de válvula aplicado por rociadura de plasma, teniendo la superficie una rugosidad de superficie promedio medida con un perfilómetro o rugosímetro de por lo menos aproximadamente 6.35 micras y un promedio de picos superficiales por 2.54 cm de por lo menos aproximadamente 40, con los picos por 2.54 cm estando basados en un límite de umbral inferior del rugosímetro de 7.62 micras y un límite de umbral superior del rugosímetro de 10.16 micras.